Авторы исследования намерены протестировать свое открытие в сфере фотолитогрфии и других процессов нанотехники, что поможет создавать чипы.
Источник картинки: canva.com
Российские ученые из МГУ разработали новый материал в области нанотехнологий – триблочные термополимеры типов АВС и ВАС, которые могут применяться в качестве микроструктуры для создания фотолитографических масок при производстве чипов.
Этот материал может собираться в определенную микроструктуру под действием растворителей с подобранной селективностью. Триблочный термополимер состоит из трех компонентов – полистирола (А), полибутадиена (В) и полидиметилсилоксана (С), и получен при помощи анионной полимеризации.
Исследователям удалось определить микроструктуру системы путем подбора молекулярной массы и соотношений между блоками. Ученые надеются, что данное изобретение найдет применение не только в фотолитографических процессах, но и для различных нанотехнологических целей.